Carmanhaasen zuntz bidezko ebaketa-osagai optikoak zuntz laser bidezko ebaketa-buru mota desberdinetan erabiltzen dira, zuntzaren irteerako izpia transmitituz eta fokatuz xafla ebakitzeko helburua lortzeko.
(1) Inportatutako kuartzozko xurgapen ultra baxuko materiala
(2) Gainazaleko zehaztasuna: λ/5
(3) Energia-kontsumoa: 15000W arte
(4) Xurgapen ultra-baxuko estaldura, xurgapen-tasa <20ppm, iraupen luzekoa
(5) Gainazal asferikoen akabera zehaztasuna 0,2 μm-ra arte
Zehaztapenak | |
Substratu materiala | Silize urtua |
Dimentsio-tolerantzia | +0,000”-0,005” |
Lodiera-tolerantzia | ±0,005” |
Esferako indarra | 3 ertz |
Esferaren irregulartasuna | 1 fleece |
Gainazalaren Kalitatea | 10-5 |
Irekidura garbia (leundua) | %90 ≥ |
Foku-distantzia eraginkorraren (EFL) tolerantzia | < %1,0 |
Zehaztapenak | |
Bi aldeetako AR estaldura estandarra @1070nm | |
Xurgapen osoa | < 30 ppm |
Transmitantzia | %99,9 baino gehiago |
| |
Ultra xurgapen baxuko AR/AR estaldura @1070nm | |
Xurgapen osoa | < 10 ppm |
Transmitantzia | %99,9 baino gehiago |
Diametroa (mm) | Foku-distantzia (mm) | Estaldura |
28 | 75 | AR/AR @ 1030-1090nm |
28 | 100 | AR/AR @ 1030-1090nm |
30 | 75 | AR/AR @ 1030-1090nm |
30 | 100 | AR/AR @ 1030-1090nm |
Diametroa (mm) | Foku-distantzia (mm) | Estaldura |
28 | 125 | AR/AR @ 1030-1090nm |
30 | 125 | AR/AR @ 1030-1090nm |
30 | 150 | AR/AR @ 1030-1090nm |
30 | 200 | AR/AR @ 1030-1090nm |