SLA (estereolitografia) fabrikazio-prozesu gehigarria da, hau da, UV laser bat fotopolimero erretxinaren BEZa bideratuz. Ordenagailu bidezko laguntzarekin edo ordenagailuen laguntzarekin laguntzarekin (CAM / CAD) softwarea laguntzearekin batera, UV laserra aurrez programatutako diseinua edo forma fotopolimeroaren BEZaren azalera marrazteko erabiltzen da. Fotopolimeroak argi ultramorearekiko sentikorrak dira, beraz, erretxina argazkilaria solidotu da eta nahi den 3D objektuaren geruza bakarra eratzen du. Prozesu hau diseinuaren geruza bakoitzerako errepikatzen da 3D objektua osatu arte.
Carmanhaas-ek bezeroari eskain diezaioke sistema optikoa, batez ere, Galvanometro bizkorreko eskanerra eta F-Theta eskaneatu lentea, habe zaborra, ispilua eta abar barne hartzen ditu.
355nm Galvo eskanerra burua
| Eredu | Psh14-h | Psh20-h | Psh30-h |
| Ura Cool / zigilatutako eskaneatu burua | bai | bai | bai |
| Irekiera (mm) | 14 | 20 | 30 |
| Eskaneatu angelu eraginkorra | ± 10 ° | ± 10 ° | ± 10 ° |
| Jarraipen errorea | 0,19 ms | 0,28ms | 0,45ms |
| Urratsaren erantzunaren denbora (eskala osoaren% 1) | ≤ 0,4 ms | ≤ 0,6 ms | ≤ 0,9 ms |
| Abiadura tipikoa | |||
| Kokapena / salto | <15 m / s | <12 m / s | <9 m / s |
| Linearen eskaneatzea / raster eskaneatzea | <10 m / s | <7 m / s | <4 m / s |
| Bektore eskaneatze tipikoa | <4 m / s | <3 m / s | <2 m / s |
| Idazketa kalitate ona | 700 CPS | 450 CPS | 260 CPS |
| Idazketa kalitate handiko | 550 CPS | 320 CP | 180 CPS |
| Zehaztasun | |||
| Linealtasun | % 99,9 | % 99,9 | % 99,9 |
| Balioztapen | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad |
| Errepikagarritasun | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad |
| Tenperatura noraezean | |||
| Desplazamendu-deriva | ≤ 3 urad / ℃ | ≤ 3 urad / ℃ | ≤ 3 urad / ℃ |
| Qver 8 ordu epe luzerako desplazamendua (15min ohartarazi ondoren) | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad |
| Funtzionamendu tenperatura-tartea | 25 ℃± 10 ℃ | 25 ℃± 10 ℃ | 25 ℃± 10 ℃ |
| Seinale interfazea | Analogikoa: ± 10V Digitala: XY2-100 Protokoloa | Analogikoa: ± 10V Digitala: XY2-100 Protokoloa | Analogikoa: ± 10V Digitala: XY2-100 Protokoloa |
| Sarrerako potentzia eskakizuna (DC) | ± 15v @ 4a Max RMS | ± 15v @ 4a Max RMS | ± 15v @ 4a Max RMS |
355nm f-theta lenteak
| Zatiaren deskribapena | Luzera fokala (mm) | Eskaneatu eremua (mm) | Max Sarrera Ikaslea (mm) | Lan-distantzia (mm) | Muntatz Hari |
| SL-355-360-580 | 580 | 360x360 | 16 | 660 | M85x1 |
| SL-355-520-750 | 750 | 520x520 | 10 | 824,4 | M85x1 |
| SL-355-610-840- (15CA) | 840 | 610x610 | 15 | 910 | M85x1 |
| SL-355-800-1090- (18ca) | 1090 | 800x800 | 18 | 1193 | M85x1 |
355nm habe zabaltzailea
| Zatiaren deskribapena | Hedapen Proportzio | Sarrera CA (mm) | Irteera ca (mm) | Etxebizitz Dia (mm) | Etxebizitz Luzera (mm) | Muntatz Hari |
| Be3-355-d30: 84,5-3x-a (m30 * 1-M43 * 0,5) | 3X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30 * 1-M43 * 0,5 |
| Be3-355-d33: 84,5-5x-a (m30 * 1-M43 * 0,5) | 5X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30 * 1-M43 * 0,5 |
| Be3-355-d33: 80,3-7x-a (m30 * 1-M43 * 0,5) | 7X | 10 | 33 | 46 | 80.3 | M30 * 1-M43 * 0,5 |
| Be3-355-d30: 90-8x-a (m30 * 1-M43 * 0,5) | 8X | 10 | 33 | 46 | 90,0 | M30 * 1-M43 * 0,5 |
| Be3-355-d30: 72-10x-a (m30 * 1-M43 * 0,5) | 10x | 10 | 33 | 46 | 72,0 | M30 * 1-M43 * 0,5 |
355nm ispilua
| Zatiaren deskribapena | Diametroa (mm) | Lodiera (mm) | Geruza |
| 355 ispilua | 30 | 3 | HR @ 355nm, 45 ° Aoi |
| 355 ispilua | 20 | 5 | HR @ 355nm, 45 ° Aoi |
| 355 ispilua | 30 | 5 | HR @ 355nm, 45 ° Aoi |
