SLA (Estereolitografia) fotopolimero erretxinazko ontzi batean UV laser bat fokatuz funtzionatzen duen gehigarrizko fabrikazio prozesu bat da. Ordenagailuz lagundutako fabrikazioaren edo ordenagailuz lagundutako diseinuaren (CAM/CAD) softwarearen laguntzarekin, UV laserra erabiltzen da aurrez programatutako diseinu edo forma bat marrazteko fotopolimero ontziaren gainazalean. Fotopolimeroak sentikorrak dira argi ultramorearekiko, beraz, erretxina fotokimikoki solidotzen da eta nahi den 3D objektuaren geruza bakarra osatzen du. Prozesu hau diseinuaren geruza bakoitzerako errepikatzen da 3D objektua osatu arte.
CARMANHAASek bezeroari sistema optikoa eskain diezaioke, batez ere Galvanometro Eskaner azkarra eta F-THETA eskaneatze lentea, Izpi Hedatzailea, Ispilua, etab. barne hartzen dituena.
355nm Galvo eskaner burua
| Modeloa | PSH14-H | PSH20-H | PSH30-H |
| Urarekin hoztutako/zigilatutako eskaneatze-burua | bai | bai | bai |
| Irekidura (mm) | 14 | 20 | 30 |
| Eskaneatze angelu eraginkorra | ±10° | ±10° | ±10° |
| Jarraipen-errorea | 0,19 ms | 0,28 ms | 0,45 ms |
| Urrats-erantzun denbora (eskala osoaren % 1) | ≤ 0,4 ms | ≤ 0,6 ms | ≤ 0,9 ms |
| Abiadura tipikoa | |||
| Kokapena / jauzia | < 15 m/s | < 12 m/s | < 9 m/s |
| Lerro eskaneatzea/raster eskaneatzea | < 10 m/s | < 7 m/s | < 4 m/s |
| Bektore-eskaneatzea tipikoa | < 4 m/s | < 3 m/s | < 2 m/s |
| Idazketa kalitate ona | 700 cps | 450 cps | 260 cps |
| Idazketa kalitate handia | 550 cps | 320 cps | 180 cps |
| Zehaztasuna | |||
| Linealtasuna | %99,9 | %99,9 | %99,9 |
| Bereizmena | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad |
| Errepikagarritasuna | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad |
| Tenperatura-desbideratzea | |||
| Desplazamendu-desplazamendua | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ |
| 8 orduko epe luzeko desplazamendu-desbideratzea (15 minutuko abisuaren ondoren) | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad |
| Tenperatura-tarte funtzionala | 25 ℃ ± 10 ℃ | 25 ℃ ± 10 ℃ | 25 ℃ ± 10 ℃ |
| Seinale Interfazea | Analogikoa: ±10V Digitala: XY2-100 protokoloa | Analogikoa: ±10V Digitala: XY2-100 protokoloa | Analogikoa: ±10V Digitala: XY2-100 protokoloa |
| Sarrerako potentzia-eskakizuna (DC) | ±15V @ 4A gehienezko RMS | ±15V @ 4A gehienezko RMS | ±15V @ 4A gehienezko RMS |
355nm-ko F-Theta lenteak
| Zatiaren deskribapena | Foku-distantzia (mm) | Eskaneatze-eremua (mm) | Sarrera maximoa Ikaslea (mm) | Laneko distantzia (mm) | Muntaketa Haria |
| SL-355-360-580 | 580 | 360x360 | 16 | 660 | M85x1 |
| SL-355-520-750 | 750 | 520x520 | 10 | 824.4 | M85x1 |
| SL-355-610-840-(15CA) | 840 | 610x610 | 15 | 910 | M85x1 |
| SL-355-800-1090-(18CA) | 1090 | 800x800 | 18 | 1193 | M85x1 |
355nm-ko habe-hedatzailea
| Zatiaren deskribapena | Hedapena Erlazioa | Sartu CA (mm) | Irteerako CA (mm) | Etxebizitza Diametroa (mm) | Etxebizitza Luzera (mm) | Muntaketa Haria |
| BE3-355-D30:84,5-3x-A(M30*1-M43*0,5) | 3X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D33:84,5-5x-A(M30*1-M43*0,5) | 5X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D33:80,3-7x-A(M30*1-M43*0,5) | 7X | 10 | 33 | 46 | 80.3 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D30:90-8x-A(M30*1-M43*0,5) | 8X | 10 | 33 | 46 | 90.0 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D30:72-10x-A(M30*1-M43*0,5) | 10X | 10 | 33 | 46 | 72.0 | M30*1-M43*0.5 |
355nm-ko ispilua
| Zatiaren deskribapena | Diametroa (mm) | Lodiera (mm) | Estaldura |
| 355 Ispilua | 30 | 3 | HR@355nm, 45° AOI |
| 355 Ispilua | 20 | 5 | HR@355nm, 45° AOI |
| 355 Ispilua | 30 | 5 | HR@355nm, 45° AOI |
